Des chercheurs de l'Université Cornell ont annoncé une percée dans la production de dichalcogénure de métal de transition (TMD), qui pourrait générer beaucoup moins d'énergie, constituant le bloc de construction de processeurs plus rapides, plus petits et plus efficaces en énergie.
Les TMD sont des matériaux prometteurs pour les futures technologies de semi-conducteurs, de cellules solaires et de détecteurs de lumière, car ils sont extrêmement minces. Cela est particulièrement important dans la mesure où les producteurs de circuits intégrés et de processeurs cherchent à repousser les limites du silicium au-dessous des procédés à 10 nm. De nouveaux matériaux seront nécessaires si les fabricants souhaitent étendre la loi de Moore. Cette technologie peut sembler familière au graphène et peut être utilisée pour produire des couches de film très minces pour l'électronique. Les films TMD hautement conducteurs ne peuvent pas être cassés.
"Notre travail pousse les TMD à l'échelle technologique pertinente, montrant la possibilité de fabriquer des dispositifs à cette échelle, " ... "En principe, rien ne s'oppose à la [viabilité commerciale]." - Saien Xie, auteur du papier
C’est là que la percée intervient, alors que des chercheurs de Cornell ont réussi à produire une nouvelle technique industrielle connue sous le nom de "dépôt en phase vapeur par un procédé organo-chimique (MOCVD)". La technique consiste à mélanger du sulfure d’éthyle et un composé métallique d’hexacarbonyle sur une tranche de silicium, puis à les cuire à 550 degrés pendant 26 heures dans de l’hydrogène gazeux. Cette méthode a été testée sur un lot de 200 plaquettes. Seules deux d’entre elles étaient défectueuses, ce qui représente un taux de réussite de 99% et un signe prometteur pour ce processus.
Cependant, pour le moment, la taille de l'échantillon est encore à une pression élevée. Il reste encore beaucoup à faire avec cette technologie, mais elle reste très prometteuse. La vidéo ci-dessous est assez intéressante si vous voulez en savoir plus sur les TMD.
